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'삼성·SK하이닉스 반도체 기술 中 유출' 협력사 직원 등 17명 기소

미국변호사

검찰이 삼성전자와 SK하이닉스 등 우리 기업의 D램 반도체 관련 핵심 첨단 기술을 중국 경쟁업체로 유출한 혐의로 반도체 장비업체 연구소장 등 17명을 기소했다.

 

서울중앙지검 형사12부(부장검사 조상원)는 26일 국가정보원 산업기밀보호센터와 공조해 'D램 반도체 관련 국가핵심기술, 첨단기술 국외 유출 사건' 수사 결과를 발표했다. 서울중앙지검 형사12부는 영업비밀유출·정보통신범죄전담부서다.

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검찰은 SK하이닉스 D램 반도체 제조 및 세정 관련 국가핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 반도체 장비업체 A사 연구소장 김모씨와 영업그룹장 윤모씨 등 2명을 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설 등) 등의 혐의로 구속 기소했다. 

 

또 삼성전자 자회사인 세메스의 반도체 세정장비 도면을 입수해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 A사 공정그룹장 박모씨 등 3명도 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 구속 기소했다. 범행에 가담한 A사 부사장, 품질그룹장과 세메스 전직 직원 등 12명은 불구속 기소했다.

 

김씨 등은 지난 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단기술 및 영업비밀을 중국 반도체 업체에 유출한 혐의를 받고 있다.

 

HKMG 반도체 제조 기술은 D램 반도체의 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용하는 것으로 최신 반도체 제조 공정 기술이다. 반도체 세정 레시피는 SK하이닉스가 반도체 양산 라인에서 수만장 이상의 패턴 웨이퍼(pattern wafer)로 공정을 수행하고 이를 평가, 보완해 확정한 정보다. 반도체 제조 공정 중 세정 공정에 사용되는 화학물질의 배합비, 분사 순서, 속도, 압력 등에 대한 수치다.

 

윤씨 등은 2018년 8월부터 지난해 6월까지 경쟁업체인 세메스의 전직 직원을 통해 세메스가 최초 개발한 반도체 세정장비 도면을 입수해 중국 수출용 반도체 장비를 개발에 사용한 혐의를 받는다. 이들이 중국에 유출한 반도체 관련 기술 등은 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술들이다.

 

검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 핵심 기술이 중국으로 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 수사에 착수했다.

 

검찰 관계자는 "치밀한 수사를 통해 반도체 제조 기술의 추가적인 국외 유출을 방지했다"며 "앞으로도 기술유출 사건 등 전문분야 수사 역량을 지속적으로 강화해 국가핵심기술과 첨단기술의 국외유출 사범에 대해 엄정 대응하겠다"고 말했다.

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